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普泰克 半導體工藝冷板冷卻器
產品簡介:

普泰克 半導體工藝冷板冷卻器,在半導體刻蝕、薄膜沉積、離子注入等核心制程中,工藝腔體內的冷板承擔著精準控溫的重要職責。冷板表面溫度的均勻性與響應速度,直接影響晶圓表面的化學反應速率與薄膜生長質量。

產品型號:

更新時間:2026-07-16

廠商性質:生產廠家

訪 問 量 :113

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普泰克 半導體工藝冷板冷卻器核心優勢介紹

在半導體刻蝕、薄膜沉積、離子注入等核心制程中,工藝腔體內的冷板承擔著精準控溫的重要職責。冷板表面溫度的均勻性與響應速度,直接影響晶圓表面的化學反應速率與薄膜生長質量。普泰克半導體工藝冷板冷卻器(Chiller)在以下方面形成了較為突出的核心優勢:

一、精準的冷板表面溫度控制

依托高精度PID控制算法與進口鉑電阻溫度傳感器,系統力求實現每次控制結果的一致性。在特定工況下,部分機型控溫精度可達±0.1℃,有助于減少溫度波動對刻蝕速率、薄膜均勻性及關鍵尺寸(CD)控制帶來的影響,輔助提升晶圓加工良率。

二、直冷型制冷,降溫響應較快

采用制冷劑在冷板側直接蒸發吸熱的直冷型制冷方式,區別于傳統的二次換熱液冷方案。通過相變過程直接帶走熱量,降溫速度具有一定優勢。部分PTZL系列直冷機支持冷板溫度200℃時直接開啟壓縮機降溫,有助于縮短工藝切換等待時間。

三、較寬的溫度覆蓋與定制能力

支持較寬的溫度區間定制,覆蓋范圍可達-150℃至+300℃(依具體機型與定制需求而定)。可依據客戶冷板的尺寸、流道結構、熱負荷特性進行非標定制,力求匹配不同刻蝕、沉積設備對冷板溫度的具體要求。

四、冷板表面均溫性優化

針對工藝冷板對表面溫度均勻性的較高要求,系統通過優化循環介質流量與壓力參數,確保在深冷或高溫工況下介質能順暢流經冷板內部微流道,有助于維持整塊冷板表面溫差的均勻性。優化的流體動力學流道設計,力求消除局部熱點或冷點。

五、全密閉循環設計

采用全密閉式循環系統設計,循環管路與外界空氣隔離,有助于避免低溫工況下吸收空氣中水分導致介質性能改變,同時減少對真空腔體內部環境的影響。系統無冷媒消耗,無需頻繁補充介質,適合支持連續長時間運行。

六、普泰克 半導體工藝冷板冷卻器安全保護與智能監控

配備彩色觸摸屏,支持溫度、壓力、流量等多參數實時顯示與記錄。系統內置多重報警保護機制,包括壓縮機過熱、制冷系統壓力異常、超溫自動斷電及故障自診斷等,有助于提升設備運行過程中的安全防護水平。

普泰克 半導體工藝冷板冷卻器


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